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科創(chuàng)板上市對發(fā)明專利的質(zhì)量要求有哪些

發(fā)布時間:2022-9-2來源:本站點(diǎn)擊:返回列表

       證監(jiān)會發(fā)布的《科創(chuàng)屬性評價指引(試行)》[第21號公告]從發(fā)明專利的數(shù)量提出了硬性要求,但從企業(yè)實(shí)際科創(chuàng)板上市過程中的問詢問題來看,針對發(fā)明的專利質(zhì)量科創(chuàng)板上市企業(yè)至少需要從五個方面進(jìn)行關(guān)注,按照重要性排序依次是主營業(yè)務(wù)收入相關(guān)性(必要條件)、技術(shù)水平先進(jìn)性(核心屬性)、權(quán)利穩(wěn)定性(基礎(chǔ)要素)、技術(shù)實(shí)施自由(發(fā)展支撐)、關(guān)鍵技術(shù)控制力(更高要求),如圖所示。

 

 
 
 
       與形成主營業(yè)務(wù)收入相關(guān)01
 
       在科創(chuàng)屬性的要求上,不管是3項(xiàng)常規(guī)指標(biāo)的必要條件之一形成主營業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專利 5 項(xiàng)以上,還是5項(xiàng)例外條款中的充分必要條件之一形成核心技術(shù)和主營業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專利(含國防專利)合計(jì)50 項(xiàng)以上,都明確指出這些專利要與形成主營業(yè)務(wù)收入直接相關(guān)。因此,科創(chuàng)板上市對于專利質(zhì)量的第一個要求就是與形成主營業(yè)務(wù)收入相關(guān),簡稱相關(guān)性。
 
       相關(guān)性意味著企業(yè)發(fā)明專利的保護(hù)內(nèi)容與形成主營業(yè)務(wù)收入的產(chǎn)品和核心技術(shù)相對應(yīng),不僅僅是發(fā)明名稱與企業(yè)的主營產(chǎn)品和技術(shù)一致,還要發(fā)明保護(hù)的技術(shù)方案真正應(yīng)用到了主營產(chǎn)品和技術(shù)中,產(chǎn)生了實(shí)際的技術(shù)效果,并帶來了主要營收中的利潤。如果企業(yè)所擁有的發(fā)明專利與主營業(yè)務(wù)或核心技術(shù)非直接相關(guān),或者雖直接相關(guān)但沒有形成主營業(yè)務(wù)收入那么將都不被認(rèn)可。
 
       福建匯川物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)科技股份有限公司形成主營業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專利共 11 項(xiàng),3 項(xiàng)為自主研發(fā),而8 項(xiàng)都為 2019 年 12 月受讓取得??苿?chuàng)板審核中心第二輪問詢意見要求發(fā)行人及保薦機(jī)構(gòu)結(jié)合高精度俯仰伺服控制云臺技術(shù)的開發(fā)過程、形成時間、應(yīng)用于產(chǎn)品的時間、對應(yīng)專利名稱、申請時間等,說明外購專利對應(yīng)的核心技術(shù)對公司產(chǎn)品功能的具體體現(xiàn),與公司業(yè)務(wù)的相關(guān)性,是否符合《科創(chuàng)屬性評價指引(試行)》關(guān)于“形成主營業(yè)務(wù)收入的發(fā)明專利 5 項(xiàng)以上”的規(guī)定。最終,上交所發(fā)出了終止該公司首次公開發(fā)行股票并在科創(chuàng)板上市審核的決定。
 
       技術(shù)先進(jìn)性02
 
       科創(chuàng)板上市對專利的技術(shù)先進(jìn)性評價十分嚴(yán)謹(jǐn)甚至是“苛刻”,不僅要考慮該專利相對于行業(yè)同類技術(shù)水平的技術(shù)優(yōu)勢、對本企業(yè)主營業(yè)務(wù)直接做出的技術(shù)貢獻(xiàn),還要結(jié)合技術(shù)是否為自主研發(fā)、是否具備核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)等來考慮??苿?chuàng)上市的評價更傾向于鼓勵自主研發(fā)取得的原創(chuàng)性知識產(chǎn)權(quán),這源于科創(chuàng)板定位旨在借助資本市場扶持擁有關(guān)鍵核心技術(shù)、科技創(chuàng)新能力突出的科技創(chuàng)新企業(yè)發(fā)行上市。
 
       企業(yè)應(yīng)當(dāng)跟蹤國內(nèi)外前沿和重點(diǎn)技術(shù)發(fā)展趨勢,對本領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)和主流技術(shù)進(jìn)行深入跟蹤研究,合理確定適合自身的技術(shù)創(chuàng)新方向,保障自身技術(shù)研發(fā)路線的先進(jìn)性、可行性和前瞻性。此外,還要積極參與國家倡導(dǎo)和組織的關(guān)鍵共性技術(shù)開發(fā)和研究項(xiàng)目,圍繞關(guān)鍵核心技術(shù)、共性技術(shù)進(jìn)行積累、儲備和戰(zhàn)略布局高質(zhì)量的發(fā)明專利。
 
       權(quán)利穩(wěn)定性03
 
       專利的權(quán)利穩(wěn)定性對于實(shí)施該專利技術(shù)、利用該專利技術(shù)進(jìn)行維權(quán)至關(guān)重要。專利權(quán)的穩(wěn)定一方面要做好授權(quán)專利的維護(hù),二是要重視技術(shù)交底書的撰寫和審查意見的答復(fù),保證授權(quán)后的專利文本不存在可能被無效的“瑕疵”。
 
       企業(yè)在科創(chuàng)板上市過程中,經(jīng)常面臨競爭對手的專利無效攻勢,如果自身專利的權(quán)利穩(wěn)定性不過硬,很容易被無效掉,不僅可能無法滿足發(fā)明專利數(shù)量要求,還可能會被認(rèn)為技術(shù)創(chuàng)新性不夠、無法支撐主營業(yè)務(wù)等問題而終止上市。
 
       秦川物聯(lián)共申請了多達(dá) 700項(xiàng)專利,但其中僅有不到300項(xiàng)取得授權(quán),授權(quán)率不到 40%。此外,還有大量專利申請被撤回、或被視為非正常專利申請、或被宣告無效,上交所因此對該企業(yè)的知識產(chǎn)權(quán)質(zhì)量提出了質(zhì)疑,最終該企業(yè)折戟科創(chuàng)板。
 
       北京天科合達(dá)半導(dǎo)體股份有限公司上市申請過程中,其3項(xiàng)發(fā)明專利因未按期繳納年費(fèi)而失效。這一情況引發(fā)了上交所對天科合達(dá)的持續(xù)經(jīng)營能力、專利管理制度的健全程度以及是否存在其他類似專利失效風(fēng)險的質(zhì)疑。該公司最終于2020年10月15日申請撤回上市申請,終止了本次上市之路。
 
       專利技術(shù)能夠自由實(shí)施04
 
       專利技術(shù)能否自由實(shí)施,通常要看技術(shù)研發(fā)屬于原創(chuàng)性還是改進(jìn)型,其專利來源是他人許可轉(zhuǎn)讓還是獨(dú)立取得,是否依賴他人。如果專利屬于獨(dú)立研發(fā)所得,不存在他人在先專利的限制,可以保證企業(yè)的獨(dú)立經(jīng)營。如果專利技術(shù)是針對他人專利技術(shù)的改進(jìn),需要判斷實(shí)施是否依賴于在先專利申請,如果依賴,是否獲得了他人專利的轉(zhuǎn)讓或者許可。如果專利技術(shù)為合作研發(fā)所得,專利的權(quán)屬是否清晰等。
 
       如果存在早期的他人專利而且沒有獲得技術(shù)實(shí)施許可,則需要研發(fā)新的技術(shù)或者進(jìn)行技術(shù)規(guī)避設(shè)計(jì),并對自身產(chǎn)品或技術(shù)與他人在先專利進(jìn)行通過技術(shù)特征比對等手段提前準(zhǔn)備不侵權(quán)的證據(jù)。
 
       關(guān)鍵技術(shù)控制力05
 
       具有高質(zhì)量的知識產(chǎn)權(quán)和戰(zhàn)略性的知識產(chǎn)權(quán)布局,是企業(yè)擁有并控制關(guān)鍵核心技術(shù)的基礎(chǔ),是企業(yè)核心競爭力的保障。專利是對核心技術(shù)的法律保障,但通常一件專利很難對核心技術(shù)周嚴(yán)的保護(hù),甚至對具體產(chǎn)品的某一核心零部件都需要多件專利的立體保護(hù)。通常應(yīng)當(dāng)申請一件或者多件核心專利,然后申請多件外圍專利以建立專利“圍墻”,全面保護(hù)自己的核心技術(shù)和產(chǎn)品。
 
       技術(shù)控制力好的專利組合被侵權(quán)時,很容易進(jìn)行侵權(quán)判定,能夠方便專利權(quán)人的搜集被侵權(quán)證據(jù)。技術(shù)控制力好的專利組合能夠有效保證產(chǎn)業(yè)鏈上下游的市場安全,促成緊密的產(chǎn)業(yè)鏈合作環(huán)境。
 
       安集微電子主營業(yè)務(wù)為關(guān)鍵半導(dǎo)體材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,目前產(chǎn)品包括不同系列的化學(xué)機(jī)械拋光液和光刻膠去除劑,主要應(yīng)用于集成電路芯片制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域。
 
       通過對安集微電子的專利申請趨勢分析可以看出,其在2005年就開始申請專利,最早的申請至今維持年限已有14年;在拋光劑和光刻膠去除劑兩個技術(shù)領(lǐng)域,全球申請人排名依次為卡伯特微電子公司、安集微電子有限公司、三星電子、巴斯夫、海力士半導(dǎo)體公司,可見安集微電子在全球中的地位靠前。安集微電子有限公司在中國大陸的申請量也穩(wěn)居第一。每年都有20項(xiàng)左右的專利申請,持續(xù)研發(fā)能力較好;披露的190件專利均為發(fā)明專利,相對來講創(chuàng)新性較高,且主要為發(fā)行人自主持有,有少數(shù)控股公司的內(nèi)部轉(zhuǎn)讓,自主研發(fā)能力強(qiáng)。
 
       安集微電子有超過三成的專利布局到我國臺灣地區(qū)以及美國、新加坡、韓國等國家和地區(qū),這與其產(chǎn)品市場地、主營業(yè)務(wù)收入等息息相關(guān)。
 
       安集微電子專利被引證1-9次的專利項(xiàng)數(shù)63項(xiàng);被引證次數(shù)11-20次的專利項(xiàng)數(shù)為9項(xiàng);被引證次數(shù)20項(xiàng)以上的專利5項(xiàng),表明專利整體質(zhì)量較高,得到了行業(yè)的廣泛認(rèn)可。
 
       一般來說,專利的權(quán)利要求數(shù)量越多表明專利的質(zhì)量和穩(wěn)定性越高。據(jù)統(tǒng)計(jì),安集微電子的專利的平均權(quán)利要求數(shù)為10.8,超過了國內(nèi)專利申請額外收取費(fèi)用的限定值10,反映了專利的整體質(zhì)量較高。    安集微電子核心技術(shù)涉及化學(xué)機(jī)械拋光液的核心技術(shù)有五項(xiàng):金屬表面氧化技術(shù)、金屬表面腐蝕抑制技術(shù)、拋光速率調(diào)節(jié)技術(shù)、拋光晶圓表面形貌控制技術(shù)和拋光后表面清洗技術(shù);涉及光刻膠的核心技術(shù)有兩項(xiàng):光阻清洗中金屬防腐蝕技術(shù)和光刻膠殘留物去除技術(shù)。針對每項(xiàng)核心技術(shù),安集微電子都布局了多項(xiàng)專利,技術(shù)控制力較強(qiáng)。

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